■ 平成23年度　研究生紹介


　　　　 　　　　 　　　　 　　　　
研究者 研究テーマ
真田　悠司
(M2) 		交流表面光電圧法による金属汚染n及びp型Siにおける熱酸化膜電荷の研究
板野　純希
(M1) 		ω−SPV法によるキャリアライフタイムの評価
萩原　寛幸
(M1) 		交流表面光電圧法による金属汚染n及びp型Siにおける熱酸化膜電荷の研究
加藤　悟
（研究生） 		交流表面光電圧法による金属汚染n及びp型Siにおける熱酸化膜電荷の研究
安藤　諭

城所　悠 　　　　

柳沼　健太

Fe汚染したSi表面における酸化膜成長とFeの挙動に関する研究
鈴木　大基

高橋　翔太 　　　　

中尾　圭吾

Cr汚染したシリコン表面における酸化膜成長とCrの挙動に関する研究
葛生　一馬

羽石　悠

ω−SPV法によるキャリアライフタイムの評価
石塚　稜

油座　大夢

ω−SPV法によるキャリアライフタイムの評価



岩本　拓也

中村　優理 　　　　

若松　修平

ゾル-ゲル法を用いたZrO2薄膜の作製と評価
徳武　央也

交流表面光電圧法による多結晶Si薄膜の結晶性評価に関する研究
高根　遼太

平島　章寛

走査型トンネル顕微鏡によるSi表面の初期酸化過程
の研究
安藤　順平

石塚　朋也 　　　　

遠藤　卓

微細加工プロセスの構築
磯田　悠太

吉原　潤

渡邉　信嘉

陽極化成Nb2O5の電気的特性に関する研究