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平成22年度 研究生紹介
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| 研究者 | 研究テーマ | ||
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真田 悠司 (M1) |
金属不純物のシリコン熱酸化成長に及ぼす影響と金属原子の挙動 | |
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黒田 義将 （研究生） |
交流表面光電圧法による多結晶Si薄膜の結晶性評価に関する研究 | |
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末永 勝也 （研究生） |
高分子薄膜の電気的特性に関する研究 | |
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立谷 真 （研究生） |
陽極化成Ta2O5薄膜の電気的特性の解析 | |
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千葉 隆史
矢田部 祐紀 |
Au汚染したSi表面における酸化膜成長とAuの挙動に関する研究 |
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萩原 寛幸
加藤 悟 |
Fe汚染したシリコン表面における酸化膜成長とFeの挙動に関する研究 |
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深澤 和哉
溝井 篤 |
Cr汚染したSi表面における酸化膜成長とCrの挙動に関する研究 |
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井上 敦広
齋藤 雄大 |
交流表面光電圧法による多結晶Si薄膜の結晶性評価に関する研究 |
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岡部 敬紀
勝俣 一仁 |
ω−SPV法によるキャリアライフタイムの評価 |
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武田 政人
千葉 悠喜 |
走査型トンネル顕微鏡によるSi表面の初期酸化過程の研究 |
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今井 拓也
下村 彰 |
微細加工プロセスの構築 |
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藤崎 竜也
山浦 卓也 |
ゾル-ゲル法を用いたZrO2薄膜の作製と評価 |
 
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鈴木 孝洋
鈴木 喬哉 千葉 巧 |
陽極化成Nb2O5の電気的特性に関する研究 |
 
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田中 伸尚
前原 英統 渡邉 裕行 |
陽極化成Ta2O5薄膜の電気的特性に関する研究 |
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石崎 裕樹
板野 純希 |
高分子薄膜の電気的特性に関する研究 |
| 大学院生 |
| 大学生 |
