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平成16年度 研究生紹介
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この研究生紹介は、2009年12月19日に追加されたものです。 研究者名や研究テーマは、研究室保管の要旨集及び卒業論文を基に作成しています。 掲載内容に誤りや不足等ございましたら、研究室までご連絡ください。 |
| 研究者 | 研究テーマ |
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| 佐藤 拓 (M2) | 高集積化シリコンデバイスにおける極薄ゲート絶縁膜の作製・評価に関する研究 |
| 大森 絵理 (M1) | 交流表面光電圧法によるSi表面の電荷解析 |
| 佐藤 裕史 (M1) | 陽極酸化したTa2O5膜の伝導機構の解析 |
| 粥川 裕二(研究生) | Si酸化膜の成長に及ぼす金属不純物の影響に関する研究 |
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池田 進之介
市川 哲 |
超高真空蒸着装置の立ち上げとAu/Siショットキー接合の形成及び評価 |
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菅野 圭
若島 裕也 |
Si(001)表面における極薄酸化膜中の成長機構に及ぼす金属不純物(Zn,Ni)の影響 |
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高野 浩次
多賀 太桂史 |
Siをドープした陽極化成Nb2O5膜の電気的特性に関する研究 |
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中村 宗哉
水沼 晃 |
ゾル-ゲル法による高誘電率HfO2膜の薄膜化と電気的特性の向上に関する研究 |
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橋本 諭史
檜作 和憲 |
交流表面光電圧法によるAu及びNi析出させたSi表面ポテンシャルに関する研究 |
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川瀬 昌也
八木澤 重幸 渡邊 喜輝 |
Ta電解コンデンサ素子の電気的特性に関する研究 |
| 大学院生 |
| 大学生 |
