平成15年度 研究生紹介


 この研究生紹介は、2009年12月19日に追加されたものです。
 研究者名や研究テーマは、研究室保管の要旨集及び卒業論文を基に作成しています。
 掲載内容に誤りや不足等ございましたら、研究室までご連絡ください


研究者 研究テーマ
菅野 不二男  (M2) 陽極化成したNb2O5とTa2O5の物性及び電気的特性に関する研究
佐藤 拓  (M1) Si(001)表面における極薄酸化膜の成長機構の解析
大森 絵理

岡田 知也

交流表面光電圧法によるCr及びCu汚染したSi表面ポテンシャルに関する研究
粥川 裕二

矢吹 智也

Si酸化膜の成長に及ぼす金属不純物の影響に関する研究
佐藤 裕史

渡辺 淳一郎

Siをドープした陽極化成Nb2O5膜の電気的特性に関する研究
米山 慎太郎

渡邊 正道

ゾル・ゲル法によるHfO2膜の極薄化と高品質化に関する研究

大学院生
大学生