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平成13年度 研究生紹介
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この研究生紹介は、2010年1月18日に追加されたものです。 研究者名や研究テーマは、研究室保管の要旨集及び卒業論文を基に作成しています。 掲載内容に誤りや不足等ございましたら、研究室までご連絡ください |
| 研究者 | 研究テーマ |
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| 小島 敏志 (M2) | Si(001)表面における超極薄酸化膜の成長機構に関する研究 |
| 佐藤 黄菜 (M1) | C2H4吸着したSi表面の走査型トンネル顕微鏡観察 |
| 進 竜平 (M1) | 交流表面光電圧法による金属不純物汚染したSi結晶の酸化膜電荷に関する研究 |
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北原 靖裕 (研究生) |
オージェ電子分光法によるSi(001)表面とC2H4の反応過程の研究 |
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笠井 宣利
橋本 和彦 |
C2H4暴露したSi(110)表面のオージェ電子分光法及び低速電子線回折法による研究 |
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金澤 哲行
村山 崇 |
Si(001)表面における金属不純物の自然酸化膜成長に及ぼす影響 |
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楠 記一
佐藤 拓 |
極薄片化水晶振動子の発振特性に関する研究 |
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佐久間 尚彦
菅野 不二男 |
マイクロマシニングによる微小変位計の試作 |
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東海林麻紀子
橋本 卓 |
強誘電体Nb2O5陽極化成膜の電気的特性に関する研究 |
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中島 由隆
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コンピュータシミュレーションによるSi(001)2×1構造へのC2H4吸着の解析 |
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平石 智司
綿引 剛史 |
オージェ電子分光法によるSi(001)表面とC2H4の反応過程に関する研究 |
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深谷 充宏
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C2H4暴露したSi(111)-(7×7)表面の走査型トンネル電子顕微鏡観察 |
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古橋 良彦
渡邊 健男 |
ゾルゲル法によるHfO2膜の作製とその基礎特性に関する研究 |
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村山 崇
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Si(001)表面における低温熱酸化膜成長に及ぼす微量Al不純物の影響 |
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矢野 俊郎
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Si結晶における金属誘起酸化膜電荷の交流表面光電圧法による研究 |
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八城 智志
坂井 博高 |
サージアブソーバ素子の放電特性に関する研究 |
| 大学院生 |
| 大学生 |
