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平成7年度 研究生紹介
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この研究生紹介は、2010年1月21日に追加されたものです。 研究者名や研究テーマは、研究室保管の要旨集及び卒業論文を基に作成しています。 掲載内容に誤りや不足等ございましたら、研究室までご連絡ください |
| 研究者 | 研究テーマ |
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Teguh Rusyanto (博士課程) |
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| 鴨志田 典弘 (M2) | 塩素を飽和吸着させたSi(100)面のレーザー誘起エッチング |
| 五十嵐 昭彦 (M1) | 陽極酸化Ta2O5膜の電気伝導機構及び誘電的性質 |
| 杉本 智 (M1) | Si引上単結晶ドーパント半径方向濃度分布の解析 |
| 田代 明弘 (M1) | 陽極酸化Ta2O5膜のP濃度分布測定と耐電圧特性 |
 (M1)
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Si(100)表面におけるSiC生成に関する基礎的研究 |
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桜井 洋行 (研究生) |
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會田 貴祥
石井 健次 Chinthaka Kumara Wijesinghe 奥谷 俊平 土屋 裕亮 |
MOS-FETの試作 |
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荒川 拓也
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周期的外力を加えた自励振動系の解の振舞い |
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岩本 幸也
福井 進二 宮城 直史 |
超高真空装置の立ち上げとLEED/AES法によるSi表面構造解析 |
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遠藤 栄司
大森 崇弘 前貞 克博 |
熱処理を施した陽極化成Ta2O5膜の電気的特性 |
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大橋 淑恵
黒川 隆英 渡辺 雄一郎 |
エリプソメータによるSi自然酸化膜の研究 |
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木村 哲哉
工藤 正稔 倉田 裕司 |
オージェ電子分光法による金属(Al,Au)-Ta2O5-Ta構造の深さ方向分析 |
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塩見 司
平岩 登 平野 和英 |
X線光電子分光法(XPS)による清浄Si表面の初期酸化の研究 |
| 柳澤 直樹 | 一次元円写像 |
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横山 達也
屋代 一義 安田 亘 |
MOS-FETの温度依存性 |
| 大学院生 |
| 大学生 |
