平成5年度 研究生紹介


 この研究生紹介は、2010年1月21日に追加されたものです。
 研究者名や研究テーマは、研究室保管の要旨集及び卒業論文を基に作成しています。
 掲載内容に誤りや不足等ございましたら、研究室までご連絡ください


研究者 研究テーマ
Teguh Rusyanto
(博士課程)
内山 裕仁  (M2) 陽極化成タンタル酸化膜の電気的特性
尾吹 友晴  (M2) HF水溶液に侵積したSi(100)表面の電子分光学的研究
小島 英一  (M2) HF処理したSi表面のエリプソメータ及びAFMによる評価
北口 政徳  (M1) Si表面の初期酸化の研究
青木 雅樹

相馬 英明

X線光電子分光法によるシリコン表面酸化膜の評価
飯島 健

市川 篤史

伊藤 康浩

p-n接合ダイオードの製作(B)
亀田 武志

高橋 良至

田代 明弘

エリプソメータによるシリコン表面酸化膜厚の測定
鴨志田 典弘

小室 欣央

田川 広樹

Si表面酸化用超高真空装置の動作試験
塩川 智久

設楽 照明

長山 弘樹

p-n接合ダイオードの製作(A)
儘田 恭則

矢野 幸宏

吉澤 潤一

陽極化成タンタル酸化膜の電気容量及びリーク電流の測定

大学院生
大学生