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平成5年度 研究生紹介
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この研究生紹介は、2010年1月21日に追加されたものです。 研究者名や研究テーマは、研究室保管の要旨集及び卒業論文を基に作成しています。 掲載内容に誤りや不足等ございましたら、研究室までご連絡ください |
研究者 | 研究テーマ |
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Teguh Rusyanto (博士課程) |
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内山 裕仁 (M2) | 陽極化成タンタル酸化膜の電気的特性 |
尾吹 友晴 (M2) | HF水溶液に侵積したSi(100)表面の電子分光学的研究 |
小島 英一 (M2) | HF処理したSi表面のエリプソメータ及びAFMによる評価 |
北口 政徳 (M1) | Si表面の初期酸化の研究 |
青木 雅樹
相馬 英明 |
X線光電子分光法によるシリコン表面酸化膜の評価 |
飯島 健
市川 篤史 伊藤 康浩 |
p-n接合ダイオードの製作(B) |
亀田 武志
高橋 良至 田代 明弘 |
エリプソメータによるシリコン表面酸化膜厚の測定 |
鴨志田 典弘
小室 欣央 田川 広樹 |
Si表面酸化用超高真空装置の動作試験 |
塩川 智久
設楽 照明 長山 弘樹 |
p-n接合ダイオードの製作(A) |
儘田 恭則
矢野 幸宏 吉澤 潤一 |
陽極化成タンタル酸化膜の電気容量及びリーク電流の測定 |
大学院生 |
大学生 |