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平成4年度 研究生紹介
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この研究生紹介は、2010年1月22日に追加されたものです。 研究者名や研究テーマは、研究室保管の要旨集及び卒業論文を基に作成しています。 掲載内容に誤りや不足等ございましたら、研究室までご連絡ください |
| 研究者 | 研究テーマ |
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Teguh Rusyanto (M2) |
HF処理をしたSi単結晶表面の電子分光学的研究 |
| 内山 裕仁 (M1) | 陽極化成タンタル酸化膜の電気的特性 |
| 尾吹 友晴 (M1) | X線光分光法によるSi表面の研究 |
| 小島 英一 (M1) | HF処理したSi表面のエリプソメータ及びAFMによる評価 |
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石垣 義志
泉 新一郎 泉田 勝之 吉沢 理夫 |
pn接合ダイオードの製作 |
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加藤 芳幸
近藤 弘之 斎藤 直之 白川 英邦 |
Si表面酸化用超高真空装置の製作 |
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小林 博明
吉田 利弘 |
エリプソメータによるSi表面薄膜の厚さ及び屈折率の測定 |
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齋藤 京一
竹田 昌広 |
タンタル酸化膜の電気伝導の測定 |
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山崎 公祝
山本 浩 吉田 伸輔 李 建男 |
MOS FETの温度特性 |
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北口 政徳
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電子分光法によるHF処理をしたSi表面の研究 |
| 大学院生 |
| 大学生 |
