多機能表面分析装置
 X線光電子分光(XPS),紫外線光電子分光(UPS),高速電子線回折(RHEED)装置が付いています。主に物質表面の組成や膜厚などを調べることができます。


 走査型トンネル顕微鏡(日本電子JSTM-4610)
 非常に鋭い探針を導電性の試料表面に近づけ、流れるトンネル電流から試料面を撮像する装置です。原子レベルの分解能を持つ画像の取得が可能です。


 交流表面光電圧測定装置
 故意に光照射をすることで過剰キャリアを発生させ、物質内の固定電荷の量を測定する装置です。


 分光エリプソメータ(溝尻光学DVA-36VW)
 薄膜や表面の微細構造を解析する為に偏光した光を用いる「分光エリプソメトリー」を利用した薄膜解析装置です。


 オージェ電子分光装置(アルバックファイAQM808)
 真空中で電子線を試料に照射し、放出されるオージェ電子の運動エネルギーを分析することで組成を分析する装置です。試料表面数nmレベルの組成分析が出来ます。


 低速電子線回折(LEED)装置
 手作りの超高真空装置にLEED分析器を取り付け、現在はこの中でHigh-k薄膜の形成を行っています。


 酸化装置
 主にウェハなどの酸化に利用する装置。非常に高濃度の酸素中で酸化処理を行います。本研究室では2機の酸化装置を保有しています。


 プローバ
 絶縁膜,誘電体薄膜の電気的特性を測定するのに使用しています。


 ドラフトチャンバー
 試料の処理(洗浄やエッチング)などはここで行います。


 クリーンベンチ
 濾過した空気を循環させることにより、無菌・無埃の状態を保つ装置です。


 その他の装置紹介
◆スパッタ装置
 手作りの小型スパッタ装置です。現在はSi薄膜の形成を行っています。

◆酸化炉
 酸化装置と異なり、大気中で試料の熱処理を行う際に利用しています。現在はhigh-k薄膜形成や電解コンデンサ用キャパシタの研究に利用しており、2機を保有しています。

◆スピンナー
 2器

◆陽極化成装置


◆真空蒸着装置
 1機

その他いろいろ